|
常用热处理工艺及代号的表示方法示例 |
|
|
工 艺 |
代 号 |
|
热处理 |
5000 |
|
感应热处理 |
5002 |
|
火焰热处理 |
5003 |
|
激光热处理 |
5005 |
|
电子束热处理 |
5006 |
|
离子热处理 |
5007 |
|
真空热处理 |
5000V |
|
保护气氛热处理 |
5000P |
|
可控气氛热处理 |
5000C |
|
流态床热处理 |
5000F |
|
整体热处理 |
5100 |
|
退火 |
5111 |
|
去应力退火 |
5111e |
|
扩散退火 |
5111d |
|
再结晶退火 |
5111r |
|
石墨化退火 |
5111g |
|
去氢退火 |
5111h |
|
球化退火 |
5111s |
|
等温退火 |
5111n |
|
正火 |
5121 |
|
淬火 |
5131 |
|
空冷淬火 |
5131a |
|
油冷淬火 |
5131e |
|
水冷淬火 |
5131w |
|
盐水淬火 |
5131b |
|
有机水溶液淬火 |
5131y |
|
盐浴淬火 |
5131s |
|
压力淬火 |
5131p |
|
双液淬火 |
5131d |
|
分级淬火 |
5131m |
|
等温淬火 |
5131n |
|
形变淬火 |
5131f |
|
淬火及冷处理 |
5131z |
|
感应加热淬火 |
5132 |
|
真空加热淬火 |
5131V |
|
保护气氛加热淬火 |
5131P |
|
可控气氛加热淬火 |
5131C |
|
流态床加热淬火 |
5131F |
|
盐浴加热淬火 |
5131L |
|
盐浴加热分级淬火 |
5131Lm |
|
盐浴加热盐浴分级淬火 |
5131Ls+m |
|
淬火和回火 |
5141 |
|
调质 |
5151 |
|
稳定化处理 |
5161 |
|
固溶处理，水韧处理 |
5171 |
|
固溶处理和时效 |
5181 |
|
表面热处理 |
5200 |
|
表面淬火和回火 |
5210 |
|
感应淬火和回火 |
5212 |
|
火焰淬火和回火 |
5213 |
|
电接触淬火和回火 |
5214 |
|
激光淬火和回火 |
5215 |
|
电子束淬火和回火 |
5216 |
|
物理气相沉积 |
5228 |
|
化学气相沉积 |
5238 |
|
等离子体化学气相沉积 |
5248 |
|
化学热处理 |
5300 |
|
渗碳 |
5310 |
|
固体渗碳 |
5311S |
|
液体渗碳 |
5311L |
|
气体渗碳 |
5311G |
|
真空渗碳 |
5311V |
|
可控气氛渗碳 |
5311C |
|
流态床渗碳 |
5311F |
|
离子渗碳 |
5317 |
|
渗碳及直接淬火 |
5311g |
|
气体渗碳及直接淬火 |
5311Gg |
|
渗碳及一次加热淬火 |
5311r |
|
渗碳及二次加热淬火 |
5311t |
|
渗碳及表面淬火 |
5311h |
|
碳氮共渗 |
5320 |
|
渗碳 |
5330 |
|
液体渗氮 |
5331L |
|
气体渗碳 |
5331G |
|
离子渗碳 |
5337 |
|
流态床渗氮 |
5331F |
|
氮碳共渗 |
5340 |
|
渗其他非金属 |
5350 |
|
渗硼 |
5350(B) |
|
固体渗硼 |
5351(B)S |
|
液体渗硼 |
5351(B)L |
|
离子渗硼 |
5357 |
|
渗硅 |
5350(Si) |
|
渗硫 |
5350(S) |
|
渗金属 |
5360 |
|
渗铝 |
5360(Al) |
|
渗铬 |
5360(Cr) |
|
渗锌 |
5360(Zn) |
|
渗钒 |
5360(V) |
|
多元共渗 |
5370 |
|
硫氮共渗 |
5370(S-N) |
|
铬硼共渗 |
5370(Cr-B) |
|
钒硼共渗 |
5370(V-B) |
|
铬硅共渗 |
5370(Cr-Si) |
|
硫氮碳共渗 |
5370(S-N-C) |
|
铬铝硅共渗 |
5370(Cr-Al-Si) |
|
熔渗 |
5380 |
|
激光熔渗 |
5385 |
|
电子束熔渗 |
5386 |